::: Á¤º¸Åë½Å¼ÒÀÚ¿¬±¸½Ç :::
Home > ¿¬±¸½Ç¼Ò°³ > º¸À¯Àåºñ

³» / ¿ë / º¸ / ±â
±ÛÀÛ¼ºÀÚ
ICDL
2011-05-17 23:57:22 | Á¶È¸ : 503
Á¦      ¸ñ Plasma Enhaced Chemical Vapor Deposition(thin flim,HIT)
÷ºÎÆÄÀÏ
sPECVD_1.jpg (139.7 KB)
Download :16



Plasma Enhaced Chemical Vapor Deposition(thin flim,HIT)
À̸§ :
¾ÏÈ£ :

ÀÌÀü±Û | Sputter ICDL   2011/05/17
´ÙÀ½±Û | Quantum Efficiency Analyser ICDL   2011/05/17
¸ñ·Ï
°æ±âµµ ¼ö¿ø½Ã Àå¾È±¸ õõµ¿ 300 ¼º±Õ°ü´ëÇб³ Á¤º¸Åë½Å°øÇкÎ(440-746) | ¿¬¶ôó : 031-290-7139 | Fax : 031-290-7159
¿¬±¸½Ç : Á¦1°øÇаü 2Ãþ 23213È£ | ¿¬¶ôó : 031-290-7174 | Fax : 031-290-7159
copyright (c) 2001-2009 ICDL. All rights reserved.