::: 정보통신소자연구실 :::

Home > 연구실소개 > 보유장비

전체 | 공정장비 (13) | 분석장비 (9)

내 / 용 / 보 / 기
글작성자	ICDL 2011-05-24 00:10:21 \| 조회 : 507
제 목	Cluster Plasma Enhanced Chemical Vapor Depositon
첨부파일	s_scluster_PECVD.jpg (151.5 KB) Download :13

Cluster Plasma Enhanced Chemical Vapor Depositon

이름 :

암호 :

다음글 \|	Solar simulator	ICDL 2011/05/17

경기도 수원시 장안구 천천동 300 성균관대학교 정보통신공학부(440-746) | 연락처 : 031-290-7139 | Fax : 031-290-7159
연구실 : 제1공학관 2층 23213호 | 연락처 : 031-290-7174 | Fax : 031-290-7159
copyright (c) 2001-2009 ICDL. All rights reserved.