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 Home > 연구실적 > 국제논문지 |
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| 논문지명 |
Vacuum |
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| 발행년도 |
2009.09 |
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| 논문제목 |
| Effect of N2O/SiH4 flow ratios on properties of amorphous silicon oxide thin films deposited by inductively-coupled plasma chemical vapor deposition with application to silicon surface passivation |
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| 첨부파일 |
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