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 Home > 연구실적 > 국제논문지 |
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| 논문지명 |
Journal of The Electrochemical Society |
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| 발행년도 |
2009.12 |
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| 논문제목 |
SiO2 Films Deposited by APCVD with a TEOS/Ozone Mixture and Its Application to the Gate Dielectric of TFTs
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| 첨부파일 |
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