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[¼º±Õ°ü´ëÇб³ Á¤º¸Åë½Å¼ÒÀÚ¿¬±¸½Ç]½ÅÀÔ»ý ¹× ¿¬±¸¿ø(¼®»ç°úÁ¤, ¹Ú»ç°úÁ¤, ¼®¹ÚÅëÇÕ°úÁ¤)À»¸ðÁýÇÕ´Ï´Ù.
¼®»ç°úÁ¤, ¹Ú»ç°úÁ¤, ¼®/¹Ú»ç ÅëÇÕ°úÁ¤ ¸ðÁý
¡Ý BK21 FOUR Âü¿©±âȸ Á¦°ø
¡Ý Display Track Âü¿© ±âȸ Á¦°ø
¡Ý ±¹Á¦ °øµ¿¿¬±¸ Âü¿© ±âȸ Á¦°ø
¡Ý ±¹³»/¿Ü Çмú´ëȸÂü¼®À» ÅëÇÑ Çй®Àû ¼Ò¾ç ÁõÁø ±âȸ Á¦°ø
¡Ý ±¹³»/¿Ü Çù¾à¿¬±¸¼Ò¿ÍÀÇ Çù·Â ¿¬±¸¸¦ ÅëÇÕ ½Ç·Â ÁõÁø ±âȸ Á¦°ø
¡Ý ÇÑÈ Q-cell »êÇÐÀåÇлý ¼±¹ß¿¡ ÀÖ¾î ³ôÀº ¼±¹ß ±âȸ Á¦°ø
¡Ý LGµð½ºÇ÷¹ÀÌ °è¾àÇаú Áö¿ø°¡´É (2023³âºÎÅÍ)
¡Ý µî·Ï±Ý ¹× ¿¬±¸Àå·Á±Ý Áö¿ø
◌ BK21 FOUR ¹× ¿ì¼öÀåÇÐ±Ý Æ÷ÇÔ µî·Ï±Ý ¹× ¿¬±¸Àå·Á±Ý Áö¿ø
◌ ¹Ú»ç°úÁ¤/¼®¹ÚÅëÇÕ°úÁ¤ (¹Ú»ç°úÁ¤ BKÆ÷ÇÔÀÇ °æ¿ì) Àü¾×µî·Ï±Ý ¹× ¸Å¿ù 150¸¸¿ø ¿¬±¸Àå·Á±Ý Áö¿ø
◌ ¼®»ç°úÁ¤ : ¿¬±¸ ¿ª·®¿¡ µû¶ó¼ Áö¿ø
◌ ¿¬±¸º¸Á¶¿ø : ¿¬±¸ ¿ª·®¿¡ µû¶ó¼ Áö¿ø
- ±Þ¿© : ÃÖ´ë ¸Å¿ù 180 ¸¸¿ø (ä¿ëÁÖüºÎ´ã±Ý Æ÷ÇÔ)
¡Ý °øÅë Çʼö »çÇ× : ¸éÁ¢ (COVID-19 »óȲ¿¡ µû¶ó ¿ÀÇÁ¶óÀÎ/¿Â¶óÀÎ À¸·Î ÁøÇà)
ÀÔÇÐÀüÇüÀº Á¤½Ã, ¼ö½Ã 1,2Â÷ µîÀÌ ÀÖÀ¸¸ç ÀÔÇнñâ¿Í ¸ÂÁö ¾ÊÀº °æ¿ì ¿¬±¸½Ç ÀÎÅÏÀ¸·Î ±Ù¹« °¡´É
- ¿¬±¸ºÐ¾ß (¹ÝµµÃ¼ ÀÀ¿ë ¼ÒÀÚ)
¡Ý Solar Cell :
◌ °áÁ¤Áú½Ç¸®ÄÜ ±â¹Ý žçÀüÁö ¿¬±¸ ÁøÇà.
◌ p-PERC, HJT, Bifacial, TOPCon, PVK / Si Tandem, III-V Á· / Si Tandem ±¸Á¶ÀÇ Å¾çÀüÁö.
◌ ¼®»ç°úÁ¤, ¼®¹ÚÅëÇÕ°úÁ¤, ¹Ú»ç°úÁ¤ ¸ðÁý.
- ¼¼ºÎ¿¬±¸ºÐ¾ß ¹× ¿¬±¸¼º°ú (¼öÇàÁßÀÎ °úÁ¦)
¡Ý °áÁ¤Áú ½Ç¸®ÄÜ ±â¹ÝÀÇ Å¾çÀüÁö ¼ÒÀÚÀÇ Á¦ÀÛ ¹× ºÐ¼®
¡Ý ¿¬ 20~30ÆíÀÇ SCI ³í¹® ÃâÆÇ
¡Ý ´Ù¼öÀÇ Å¾çÀüÁö ¹× ž籤 ¸ðµâ °úÁ¦ ÁøÇà Áß. (10°³)
¡Ý Tunnel Oxide Passivating Contact (TOPCon) žçÀüÁö °úÁ¦ ÁøÇà Áß.
¡Ý PVK / Si Tandem ±¸Á¶ÀÇ Å¾çÀüÁö °úÁ¦ ÁøÇà Áß.
¡Ý III-V Á· / Si Tandem ±¸Á¶ÀÇ Å¾çÀüÁö °úÁ¦ ÁøÇà Áß.
¡Ý ÀÌÁ¾Á¢ÇÕ Å¾çÀüÁö (HJT) °úÁ¦ ÁøÇà Áß.
¡Ý žçÀüÁö ¹× ž籤 ¸ðµâÀÇ Degradation ºÐ¼® °úÁ¦ ÁøÇà Áß.
¡Ý ž籤 ¸ðµâÀÇ Ä£È¯°æÀû ÀçȰ¿ëÀ» À§ÇÑ °úÁ¦ ÁøÇà Áß.
¡Ý ž籤 ¸ðµâÀÇ °æ·®È¸¦ À§ÇÑ ¼ÒÀç °³¹ß °úÁ¦ ÁøÇà Áß.
¡Ý Çö´ëÁß°ø¾÷, ÇÑȼַç¼Ç, LGÀüÀÚ, KEPCO, ÁÖ¼º¿£Áö´Ï¾î¸µ µî ÁøÇà Áß.
¡Ý ´Ù¼öÀÇ ±¹³»/±¹¿Ü ¿¬±¸ ±â°ü, ´ëÇÐ, °ü·Ã ±â¾÷ µî°ú ¿¬±¸ Çù¾÷À» ÁøÇà Áß.
- º¸À¯Àåºñ (¹ÝµµÃ¼ ÀÀ¿ë ¼ÒÀÚ)
¡Ý Single PECVD (SiGe), Cluster-PECVD (a-Si:H(n/i/p), Sputter (ITO), Sputter (AZO/IZO/IZrO), Sputter(IGZO), Thermal furnace (BBr/POCL/SiO2), RTP (¼Ò¸éÀû 2´ë), RTP (´ë¸éÀû 1´ë), Thermal evaporator, PECVD (SiNx), ALD (AlOx, ZnOx, HfOx), RIE (¼Ò¸éÀû/´ë¸éÀû), Metallization process sys. µî ´Ù¼öÀÇ ¹ÝµµÃ¼ °øÁ¤ Àåºñ
- Áö¿ø¹æ¹ý
¡Ý Áö¿øÀÚ°Ý : À̰ø°è ´ëÇлý Á¹¾÷ÀÚ ÀÌ»ó
(ÇкΠ: ½Å¼ÒÀç°øÇаú, ÈÇаøÇÐ, ÀüÀÚÀü±â°øÇÐ Á¹¾÷ÀÚ È¤Àº Á¹¾÷¿¹Á¤ÀÚ)
¡Ý Áö¿ø¼·ù : CV, ¼ºÀûÁõ¸í¼, ¾îÇÐÁõ¸í¼¡Ý Áö¿øÃ³ : absolutely@skku.edu (±èÅÂ¿ë ¹Ú»ç°úÁ¤)